Nanolithography trekt volle zalen

NIEUWS

Wetenschap  27 mei 2013

Nanolithography trekt volle zalen

Het nieuw op te richten Institute for Nanolithography (INL) zal een enorme aantrekkingskracht hebben op talentvolle onderzoekers uit de hele wereld. Dat denkt Hubertus Irth, decaan van de Faculteit der Exacte Wetenschappen. “Het biedt studenten een unieke kans om de hightech wereld van dichtbij te leren kennen."

Smartphones en tablets

Het INL is een samenwerking tussen hightechbedrijf ASML, FOM/NWO, UvA en de Vrije Universiteit Amsterdam. Het instituut moet een wereldwijde speler binnen het halfgeleideronderzoek worden. Het richt zich daarbij met name op de halfgeleiderlithografie, de belangrijkste productietechnologie voor het maken van geheugenchips en processoren van pc's, smartphones en tablets.

High-tech stage

Albert Polman, directeur AMOLF en hoogleraar aan de UvA: “Dit nieuwe instituut brengt high-tech fundamenteel onderzoek naar Amsterdam. We krijgen binnen twee jaar tijd ruim honderd nieuwe onderzoekers op een onderzoeksgebied met groot technologisch belang. Ik denk ook dat het veel studenten zal trekken, die in het nieuwe instituut een high-tech stage kunnen doen.”

Het INL wordt gevestigd op het Science Park Amsterdam en zal in eerste instantie door het FOM-instituut AMOLF worden ingesteld.

Floor Bal
hits 1314

Reageren?

Houd je bij het onderwerp, en toon respect: commerciële uitingen, smaad, schelden en discrimineren zijn niet toegestaan. De redactie gaat niet in discussie over verwijderde reacties